第351章 简单粗暴的技术突破
第351章 简单粗暴的技术突破 (第2/3页)
后世的半导体行业爆产能，热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者，实际上，也是单晶炉热屏技术的受益者。
……
1986年7月，蒙欣率领下单晶炉热屏技术，迅速从理论变成实际的产品。
这项成果本质上并不是太难，成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面，增加一个固定的组合件。大致上，仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。
而目前进口的单晶炉，成本不低于1万美元一台，比国产的单晶炉更贵情况下，性能远远不如这种新式带热屏的单晶炉。
这种一万美元一台的设备，实际上顶多用3~5次就报废，需要更换新的单晶炉。当然了，国外有寿命更长的单晶炉，能用十次左右，但却是禁止对中国出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了，配合热屏技术的话，晶圆生产的成本和效率，将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。
当然了，使用寿命更长的单晶炉，这则涉及到更复杂的材料学，并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。
“这个技术很厉害？”林棋毕竟不是理工狗，所以只知道CPU、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。
还有就是最复杂的光刻机，由于芯片加工都需要光刻机，光刻机也是晶圆加工工业中，最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管，主要取决于光刻机的精度。所以，即使是小白，都知道光刻机非常关键！
相对于高大上的光刻机而言，单晶炉就显得很土鳖，很少有外行人关注单晶炉技术的发展。
“当然厉害了！决定芯片性能和产能的，不仅仅是光刻机，晶圆的产能和质量，也是非常关键和重要的技术。”蒙欣微笑说道，“仅凭着这项技术，至少可以给你的芯片节省30%的成本！品质更高的晶圆，也会让芯片加工的良品率更高、性能更好！其实短期内，光刻机的技术没取得突破，仅凭着单晶炉的技术突破，就足以让芯片产能、性能、成本等等指标，都获得大幅度的提升！”
“这么厉害！”林棋不仅感觉到惊讶。
“当然！换做是听你的，头疼医头，脚痛医脚，即使我现在就帮你改进光刻机技术，保守估计也需要一年以上时间，才能有成效。”蒙欣说道，“而且，我现在去给你研发2~1.5微米的光刻机，属于严重浪费宝贵的科研资
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