第七十四章 蚀刻机研制
第七十四章 蚀刻机研制 (第1/3页)
光刻机又名：掩模对准曝光机，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术锻造，简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片上，在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。
光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工，通过化学反应，物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废为宝，变成价值高昂的-电子芯片。
因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期，光刻机成为众人心中的重中之重，如果光刻机再有所突破，那么芯片领域会和高铁领域一样，突破西方国家封堵完成弯道超车。
“不过什么？有话快说，别卖关子。”严教授瞪着周兴，催促地问：
“光刻机我是有研究过，不过，暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼，淡淡地说：
闻言，在场众人面色一松，露出意料之中的神色，脸上又带了一丝遗憾，神色复杂。
5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克，如果连光刻机也被周兴突破了，那他的研发能力未免也太吓人了。
光刻机可比蚀刻机复杂多了，芯片的核心是光刻机，光刻机的核心是镜头，目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机，这个技术的极限是14纳米级以上，10纳米以下的光刻机则要用到极紫外光刻（EUV）技术，这项技术即使国外巨头都尚处于实验室向商业化发展的阶段，鸿沟般的巨大差距不是轻易就能跨越的。
众人失望之余，又觉得理所当然。
“暂时没别的想法？你的意思是你还是有想法的咯？”与其他人不一样，严教授格外留意周兴的回答，步步紧逼地问：
“严老，我们还是先把蚀刻机量产工艺拿下再说吧！研发嘛，总要一步一步来，不要好高骛远嘛！”迎着严教授探究的目光，周兴神秘地笑了笑，避重就轻地
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