第九十九章 艾特二号:艾（挨）达（打）
第九十九章 艾特二号:艾（挨）达（打） (第1/3页)
光刻机与蚀刻机技术方面，华国一直是弱项。
近年来，蚀刻机技术慢慢已经追赶上来，虽然仍有些差距，但已经能够看到弯道超车的希望。
但是光刻机技术不同，华国最先进的光刻机生产厂商尚海微电子生产的光刻机精度是90nm，而现在国际主**度为14nm，比如现在英特尔公司所使用的就是波长193nm光刻机，所能够达到的精度极限就是制作14nm制程的芯片。
而这，并不是最先进的光刻机。最先进的光刻机制造技术是荷兰ASML公司的EUV（极紫外）光刻机，利用它能够生产7nm甚至3nm制程的芯片。
从这个数字上看，就能够清晰看到，华国与其他国家在光刻机上的巨大差距，也能够明白为什么华国芯片技术，落后于的根本原因。
而之所以国内光刻机技术这么落后，其原因是多重的。
当时，国内尚海微电子达到90nm精度时，国际主**度不过65nm，可以说差距远远没有现在这么大。
现在，却有这么大的差距，根本原因是因为，一直在停滞不前。
为什么停滞不前？因为国外见华国快要碾上来的时候，立刻开放了65nm光刻机对华国的销售。
导致的结果就是，上面对尚海微电子的扶持力度变弱，加上受到国外65nm光刻机的冲击，无法盈利，导致人心惶惶，技术骨干流失了非常多，才导致了今天这个结果。
可以说，这是当时犯下的错误，一直在走，研发……外面允许入口……放弃研发……禁售……无奈研发的老路。
以至于现在华国高端光刻机都要依赖国外进口，EUV光刻机售价高达一亿欧元往上。
而且，关键的是，例如EUV这种真正的尖端光刻机仍然被禁售。
芯片产业完全受制于别人，有时候想想就气！
张翟揉了揉太阳穴，光刻机最领先的东西，实际上是设计思路。
A1给他找来的资料，足够完善，可以说，只有足够的人还有设备材料，假以时日，照着这份高达一个多G的资料，将这光刻机研究出来，不是什么复杂的事情。
“呼……”张翟长出了口气，从站着的姿势，变为坐着。
“现在几点？”
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