第327章 EUV光刻机
第327章 EUV光刻机 (第3/3页)
EUV光刻机，玛德，花了6000积分，总算是抽到个靠谱点的东西了。”
在苏扬看来，哪怕是前世游戏界最火的LOL，在EUV光刻机面前，也一样是渣渣。
当然，两者之间的性质不同，不能比较。
不过，通俗来说，光刻机是生产芯片的核心设备，而芯片是维持计算机的运行的核心，如果没有计算机，那游戏也只是一行代码，废品一个。
压下心里的激动情绪，苏扬连忙到物品栏查看奖品。
EUV光刻机：即极紫外光刻机，该产品来源于阿斯麦公司，拥有型号NXE3400B一台，最高可用于7nm和5nm节点。
注1：取出NXE3400B之后，可在商城购买该光刻机的所有资料，包括图纸和专利技术。
注2：NXE3400B产能一月24000片圆晶，根据尺寸的大小，分割后将获得不同数量的芯片（12寸400颗）。
注3：该光刻机体积不小，默念取出时，请不要在狭小的空间内。
“牛啊！最小分辨率居然达到了5nm级别，就只一台NXE3400B，足以吊打全世界了！”
光刻机的发展史，实际上就是‘光源改进’+‘工艺创新推动光刻机更新换代’。
自从拿到iPhone5之后，苏扬就查过有关芯片的信息，但没太深入。
前阵子从杨庆涛那边得知，世界第一超算‘泰坦’的运算速度，连1亿亿次都达不到，他立刻意识到了芯片制作工艺，恐怕与前世没办法相比。
一查之下，果然是如此。
现在inter那边，去年才刚刚公布45nm的芯片进入量产阶段。
而苏扬手里所用的Noy5，芯片是双核的，也属于45nm工艺，不过不是inter的，而是高通的。
现在的inter和前世一样，主要的业务领域在计算机方面，移动方面的半导体巨头，还是以高通和三星为最。
而对于芯片来说，不管是计算机的，还是移动手机的，纳米工艺越小越好。
所谓的纳米工艺，对准的是集成电路与晶体管。
通常来说，晶体管的尺寸越小，意味着栅极越小，代表一个同样尺寸芯片上的晶体管越多。
苏扬记得，像前世的inter的酷睿I7，制作工艺的尺寸缩小到了14nm，一平方um上有上百个晶体管。
仅一个小拇指盖大小的芯片上，就可以承载数十亿颗晶体管。
这也意味着，在提高计算机运算速度的同时，能耗保持在原本的高度，甚至变得更低。