第715章 弯道计划
第715章 弯道计划 (第3/3页)
无奈之下，众人只能留下书信，希望苏辰回来之后，能够去给他们学校的学生上上课。
回到香港第一时间。
苏辰就与唐婉茹探讨盛世科技板块接下来的任务。
成立全球研发基地。
盛世不可能每个行业都涉足，然后把全部产业吃光抹净，但苏辰准备把某个环节给垄断。
不过现在盛世手中唯一能够让苏辰觉得拿得出手的，就只有锂电池。
现在的光刻机都不算。
现在但凡是半导体的厂家都能宣称自己造得出来光刻机。
什么英特尔尼康这些就不用说。
但光刻机就像印钞机，材料成本可以忽略不计，而时间就像钻石一样珍贵。
新产品需要至少1-3年时间由前后道多家厂商通力磨合，哪一家厂商尽早量产就有更多时间去改善问题和提高良率。
直到1997年，美国科技巨头们开始集体行动，英特尔联合AMD、摩托罗拉、美光、Infineon和IBM成立EUV光刻技术研发联盟。
在美国能源部和几大芯片巨头合建的EUV光刻联盟里，ASML还只是个小配角。
但在技术升级战略的重要关头，ASML决定报价16亿美元收购市值只有10亿的SVG。
不过，这次收购同样遭到美国政府和商会的阻挠，美国外国投资委员会在收购协议上加一堆条件，其中包括不许收购SVG负责打磨镜片的子公司Tinsley，以及保证各种技术和人才留在美国等。
另外，美国华尔街资本还大举买入ASML股份实现对该公司控股。
上述条件让ASML“顺理成章”地成为半个美国公司，而与此同时，ASML也享受到美国强劲基础科学带来的好处，为多年后在EUV一支独秀做了有力铺垫。
要不然阿斯麦凭什么能成为巨头？
再说说当年入局EUV光刻技术研发联盟的都有哪些。
前后有近40个国家加入战团，欧美发达国家几乎悉数入局。
包括美国在内，欧洲、日本和韩国，个个撸起袖子，摩拳擦掌，都想要占领EUV光刻技术这个未来制高点：
在美国，参与EUV光刻技术研究的超过50个单位，包括国家实验室、大学、科技公司等；
欧洲下注最大，超过35个独立国家、大约110个研究单位，参与到EUV光刻技术研究中；
日本起了个大早，EUV光刻技术研究始于1998年，却赶了个晚集，到2002年6月才成立EUV光刻技术系统研究协会，这或许和它存储芯片产业衰落有关；
韩国在工商能源部的支持下开展EUV光刻技术研究，主要参加单位有KERI(韩国电子研究社)、汉阳大学、韩国国民大学、三星浦项、首尔大学等。
看起来赛道上热热闹闹，但要跑完全场并拿到冠军并不容易，因为这是一个难度系数超级高的比赛项目。
但这个时候是最合适苏辰入局。
等国外那几大巨头反应过来，他都已经把半数技术给垄断，到时候美国人还得看他脸色。
……
唐婉茹沉吟了下，“虽然我不知道你为什么执着于这个东西，不过既然你决定了，那就成立全球研发中心吧，你有什么计划吗？”
“有，要是没计划，我肯定不会做这个决定。”苏辰拿出早已准备好的东西，“我将这个计划称之为‘弯道计划’……”