第154章 陈正博士再度来访
第154章 陈正博士再度来访 (第2/3页)
也说不清他的去向。
而唯一和他保有联系的极少数几个员工，也是三缄其口，避而不谈。
马建国自然是接下了空出来的厂长位子，厂里的员工们也没有什么意见，虽然前者的名声和人品不咋地，但毕竟也是现在晶华晶圆厂里为数不多的行政老员工，那技术能力也是过硬的，整个算下来，也没有什么特别能令人挑剔的地方。
除掉了左为民这个祸患以后，李东也终于是坐实了董事长的位置，水木大学研究组也终于能够安心开展研究工作了。
……
时间一晃，便又过去了半个月的时间。
因为气压对光刻的成像影响还在研究当中，王向中和马建国做过商量之后，便是做出了决定，首先把水木研究组的光刻机改良成果应用在所有光刻机上。
但说实话，气压对光刻机成像的影响是有限的，i线光刻机所使用的光波波长为365纳米，也就是说，它的极限制程就是0.35微米，尽管王向中在上辈子有看过一篇论文，将离轴照明和移相掩模技术相结合，能将i线光刻机的分辨率超过极限，达到0.2微米制程，但这样的研究工作一点都不划算。
现在想要进一步提升光刻机的性能，便只能选择研究波长更低的准分子激光或者是DUV深紫外线光源，但这个目标对于王向中而言，还是太早了一些。
这个问题还不是光有钱就能解决的，虽然在国际上早早地便有论文提出了这些光源的激发方法，但即便是有理论的存在，国内也没有任何一家厂商能将它们化为现实。
好在王向中还有足够的时间去研究光源问题，目前国际主流芯片制程大概也就是0.2微米左右的样子，在4年后，来自宝岛的林坚博士，便会使用浸润式光刻技术，攻克193纳米分辨率的极限。
一想到这，王向中也不知道该怎么办才好了，现在自己的资金积累还不太够，想要研发国产光刻机无疑是痴人说梦，即便是有了资金，也缺乏人才和背后的工业力量制程，同样是死路一条。
虽然他理论知识
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