第157章 灵感突现
第157章 灵感突现 (第1/3页)
“光源吗……”王向中闻言，也是陷入了思索当中。
的确是如林坚博士说的那般，照明系统，也就是光源，才是真正制约光刻水平发展的关键因素，其它的事情都能想办法取巧，无论是浸润式光刻，亦或是衍射光栅，它都是基于现有光源条件下的改良法。
而高压汞灯的365nm光波波长就决定了，它不可能制作出100nm以下制程的CPU，具有非常严重的时代局限性。
现在国际上最尖端的ArF光刻机所采用的DUV光源波长已经下降到了193纳米，从理论数值来计算，它最高可将分辨率提升到65nm，也就是目前全球最先进光刻工艺的极限。
现在用i线光刻机，还用高压汞灯这一套，不可能斗得过他们。
“您说得有道理，不过也未必，也许华夏今后几年就能跟上，把深紫外线照明系统给研究到位呢？”王向中半开玩笑道。
林坚闻言也是摇了摇头，道：“深紫外线照明没有这么简单。我看你们的资料，目前你们还在研究气压对成像系统的影响研究，不要怪我讲话难听，这种技术也就只能用于g线和i线光刻机上。”
“DUV深紫外线，也就是波长低于350纳米的电磁波，是用不到这项研究的，”他补充道：“尤其是VUV真空紫外（波长低于350纳米的电磁波）技术，只能在真空环境下使用，所以和气压毫无关系，这个你明白吧？”
“明白。”王向中闻言也是叹了一口气，要不是因为没有其它办法，谁会愿意一直把目光聚焦于i线光刻机的改良啊？
“我听陈正他讲过，你们在研究光刻机改良，所以才把我从阿美瑞肯叫了回来，让我帮你的忙，不过现在看来，华夏距离先进还差得很远哦。”林坚摇头道。
这话倒不是在嘲讽华夏的落后，这林坚博士所说的的确是事实，华夏想要真正自主制造出光刻机，还有很长的一段路要走。
不过在理论研究和实验研究上，此时的华夏可还一点儿都不输给西方国家！
“林博士您多虑了，其实华夏研究工作还是很到位的，最首先——华夏还是具有制造深紫外线激光器的能力的，至少在实验室中有这个能力。”王向中笑道。
“实验室里能造出来的意义不大啊，”林坚倒是对这个说法感到并不意外，在实验室不
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