第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗
第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗 (第2/3页)
后本坚当时就提出了如何突破这些瓶颈，里面就包括浸润法。当时的办法有很多，没有人注意到他的方法。
有点讲远了，刚刚说本坚在IBM不得志，是因为他在IBM的时候做的是深紫外光，而那时候IBM的光学部门主要研究方向是X光，这也导致他其实并没有那么得志。
不然他也不会在五十岁的时候申请IBM的内部退休创业。
因此本坚一直认为芯片制程想要突破，光源是关键，现在的光源是深紫外光，而要想从深紫外光到极紫外光，浸润法是关键。”
不得不说林本坚的技术嗅觉极其敏锐，极紫外光是芯片制程进入到10nm下的关键技术，而如果继续采取干式光刻机，极紫外光导致的问题无法解决。
当新芯从周新到胡正明再到林本坚，这一条线的人都达成了共识要走浸润式光刻机路线时，新芯在光刻机领域的主要对手们都在朝157nm干式光刻机领域发起冲锋。
当前90nm制程靠的是193nm波长的干式光刻机，这一波长的光源极限就是65nm，几乎不可能再往下了。
业内在实验室中已经对此进行过了验证，要想继续往下，那就得换光源，产业界和学术界想了各种各样的办法，这些办法都指向了一个方向换光源，换波长更短的光源。
可以很明确的说如果没有林本坚，ASML一定会继续往干式光刻机方向发展，因为他们在2000年的时候收购了SVG，一家专注于157nm波长光源的公司，是在这一技术路线上最接近商业化量产的公司。
ASML在157nm干式光刻机上投入了大量费用，如果不是林本坚先说服了台积电的总裁蒋尚义，然后由林本坚出席在布鲁塞尔举办的157nm波长的光刻机技术研讨会上说服了大多数专家。
后来依靠台积电，林本坚完成了浸润式光刻机的可行性研究，ASML压根不会走这一技术路线。
历史的拐点，导致当前全球新芯科技是唯一在浸润式光刻机上投入资源的厂商。
周新根据自己了解到的行业情况，颇有种风云变化的感觉，他带来的影响让ASML进入到了一个前景有限的技术路线里去了。
靠着之前的技术积累，ASML、尼康、佳能靠着干式光刻机和新的光源能在45nm都赶上，但是到了45nm之后，干式光刻机的技术路线一定会出问题，问题就是无论如何优化工艺，良品率都迟迟上不去。
当然不排除，他们跟着新芯科技去走浸润式光刻机的路线，但是这也意味着新芯积累的专利，构建的专利墙可以向他们收高昂的专利费用。
“马克，你好，脸聊做的很不错。”周新回到旧金山之后和扎克伯格见了一面。
脸聊短短两个月时间，在全美的用户数已经成功突破一百万了，创造了手机应用的历史，成为最快达到百万用户成就的非原厂应用。
以至于扎克伯格成为了硅谷的新宠，大量媒体版面把视线放到了这个年轻人身上。
脸聊别具一格的盈利模式，会员分阶梯收费，优化后的脸聊付费分九个档次，价格从1美元到9美元，分别对应不同的档次。
最高档，是五折，比如说原本的100条消息才可以解锁对方的全部信息，现在是50条。而1美元是9折，也就是说90条消息能解锁对方的全部信息。
这样的付费方式给了用户多样化的选择，甚至导致了很多额外的付费，比如说聊到80句的时候对方不回复我了，我为了继续聊下去为了找话题，去充一个当下可以解锁的会员，然后查看对方的具体信息后继续聊下去。
这样的付费方式前所未有，这种创新在当下令用户们眼前一亮，不仅没有被诟病，反而被大量用户认为这样很酷，符合年轻人的习惯。
加上脸聊故意在社区引导一种氛围，那就是你不是会员就不够酷，女生们对会员
（本章未完，请点击下一页继续阅读）