第三百一十二章 40nm工艺的突破
第三百一十二章 40nm工艺的突破 (第3/3页)
要投入时间和足够的资源迟早能够看到成果。
我们算是比较幸运的了，能够赶在尼康和佳能在做出157nm光源前顺利完成浸润式光刻机的研发。”
新芯选择的是后世ASML的技术路线，也就是浸润式光刻机，而尼康、佳能包括ASML在当下，都选择的是研究波长更短的光源。
后世在ASML推出浸润式光刻机，成功把芯片制程推进到40nm之后不久，尼康就顺利研发出来了基于157nm光源的干式光刻机。
可惜太晚了，那个时候ASML已经占据了40nm光刻机的主流市场，尼康一步慢步步慢，丧失了整个光刻机市场。
现在是最好的时间，光源还没有实现突破，新芯已经率先实现突破，直接绕过了65nm进入到40nm制程。
胡正明说：“我们速度需要快，尽可能快的推向市场。
同时我们要把新芯的光刻机推销出去，之前新芯虽然做光刻机，但是在全球市场上并没有我们的名号。
只有华国的芯片制造厂商们会选择我们的产品，霓虹、高丽、阿美利肯这些地方的芯片生产厂商们出于尝试会买个一台去看看效果。
他们在买过一台之后不会考虑第二台。
因为和已经使用顺手的尼康相比，新芯并没有独特优势。
和ASML背后是英特尔、台积电这些股东相比，新芯光刻机能够依仗的只有新芯自身。”
这是事实，ASML为什么能迅速扩张，在推出40nm光刻机之后，英特尔看都不再看尼康一眼，还不是因为英特尔有ASML的大量股份。
周新点头表示赞同：“我们需要抓住这个时间差。
这个难得的时间差。”
林本坚提到：“我想的是分两步走，一边是新芯可以开始做工艺验证，另外一边我想参加霓虹马上要举办的半导体展。”
霓虹每年会在12月举办半导体展，这也是整个亚太地区最盛大的展会，具体地点在霓虹东京的有明会展中心。
它也是全球最具影响力的半导体工业设备展览会。
在座的各位表示赞同：“我认为可以。”
“新芯半导体也发展这么多年了，之前我们去参加霓虹的半导体展一直没有拿得出手的产品。
这次去可以好好给霓虹人来点霓虹震撼了。”
至于保密？这完全不需要保密，新芯在这一工艺上一直和蔡司合作，他们顺利研发出来的消息几乎是第一时间就会被其他厂商知道。
包括新芯在全球注册的相关专利，大家也会察觉到。
在现代社会，像光刻机这种需要上下游数以百计的供应商合作的行业，民营企业几乎是不可能保密的。
像华为那种攻克7nm工艺，保密几乎已经做到了极限，也能在知乎上看到匿名大神各种爆料。
因此新芯的众人压根不打算考虑保密，大家想的都是最快时间扩大市场占有率。
等大家达成一致后，关建英说：“我还有一个问题，那就是我们要不要顺势接受英特尔的入股？
我们在霓虹的半导体展上展示了我们的40nm工艺后，英特尔一定会提出想要入股新芯半导体的要求。”
英特尔作为PC时代，芯片领域的绝对王者，他们在早期的时候是把芯片设计、芯片制造和芯片生产给一手包揽。
这也导致英特尔的投资部门在全球范围内大量投资了半导体上下游的企业，其中台积电、ASML的背后股东名单里都有英特尔的大名。
包括新芯的芯片制造公司中，也有不少有英特尔的参股，其中小米电脑的芯片生产商英特尔股份占比更是高达49%。
对于“贪婪”的英特尔来说，看到新芯光刻机打破尼康垄断，做到了ASML一直没有做到的事情，他们一定会动心。
在场陷入一阵沉默。
从感性角度出发，显然是不想让英特尔入股。
祝大家中秋快乐！
放假太爽了，鸦昨天晚上十一点睡，早上八点起，然后今天白天还睡了得有五个小时。
(本章完)