第1159章 首片国产芯！从零到一
第1159章 首片国产芯！从零到一 (第1/3页)
心底那点残留的、她自己都没敢承认的小疙瘩瞬间烟消云散，化作一股滚烫的清流涌向四肢百骸！喜悦毫无遮掩地在眼底炸开，明亮的眼睛里仿佛重新落满了星星。
但她随即反应过来，这家伙居然这么直接地戳破了自己的小心思！
“谁…谁希罕被锁死…谁担心你来着…”她瞬间红了脸，恼羞成怒地一把拍掉苏定平还捏着自己脸蛋的手，飞快地转过身，仿佛要检查机器散热口，留给苏定平一个染上浓重红霞的白皙后颈和一截不断微微晃动的马尾辫。
但那份属于少女的、轻松明快的气息，瞬间就充盈了这个被沉重技术压力包裹的冰冷空间。
有了TRATLAS-2000这具“骨架”带来的底层结构和运行逻辑参考，龙芯实验室如同注入了强心针！
苏定平带领团队彻底放弃了“修文物”的想法。
那台古董被拆解得七零八落，只保留其最核心的光路成像原理参考和控制时序逻辑等“基因”。
所有能替换的部分——激光器、工作台、聚焦镜组、温控系统、数据传输接口…全部使用龙夏当前能获得的最好材料，重新设计、重新制造！以“昆仑胎玉”做基座，以“蚀影”胶做载体。
“蚀影计划”浸没式水膜部分的关键技术被艰难地嫁接改造上去！
呕心沥血！焚膏继晷！
在秦明珠送来那台“废铁”的两个月零七天后的一个深夜，龙芯实验室第一台完全自主集成组装、代号“伏羲一号”的DUV浸没式光刻原型机，在巨大的嗡鸣声和众人近乎窒息的目光中，缓缓启动了！
一块极其纯净的“昆仑胎玉”圆片上均匀涂抹着最新迭代的“蚀影-7B”型光刻胶。
它被小心翼翼地放置在改进过的高精度工作台上。激光亮起，水流在物镜和晶圆之间形成稳定的液体界面折射层！掩模版上的图形被投影、缩小、聚焦！
这是全新的、龙夏自己的光刻机第一次在真正意义上的“试生产”！
光刻…曝光完成！显影！蚀刻！离子注入！退火…
当第一枚龙芯实验室首次依靠自己的光刻设备生产出的集成芯片被放入测试台。屏幕亮起！基础逻辑门信号正常！晶体管参数虽然极其不稳定、极其粗糙，甚至跑分还比不上一枚市面上常见的、几十年前生产的250nm商用处理器！
“报告！主频…0。65GHz！功耗…远高于标准！结构…勉强相当于180-200nm制程水平…”袁涛看着屏幕上跳动出来的惨不忍睹的性能参数，声音有些发涩。
整个实验室再次陷入了一片死寂。
没有欢呼。没有激动。
只有一种终于推开了一扇门、却发现门后是陡峭悬崖的冰冷现实感。极限250nm？在拥有了顶级硅片、顶级光刻胶后，第一台“自主”光刻机实际产出的芯片，连250nm的现代及格线都未摸到！只相当于古董级别的工艺！
“250nm够吗？”
苏定平的声音在寂静中突兀地响起，冰冷坚硬如矿石。
“不够！远远不够！
这只是起点！不是终点！我们不是为了造出落后几十年的电子垃圾！我们需要能驱动电磁炮进行超远程精确制导的核心！
需要能支撑烛龙稳定运行到极限输出的运算模块！需要能打通南天门计划的信息高速公路基石！我们要的——是7nm！”
他一步踏上控制台前的台阶，目光如同燃烧的星火扫过每一个人。
“从今天起，目标！榨干伏羲一号的极限！目标！7nm！”
目标7nm！口号惊天动地，现实是血肉模糊的惨烈攀登！
“伏羲一号”原始设计和部件的粗糙，就如同拖在脚下的沉重镣铐。尝试提升精度？核心光源功率不足、稳定性差！镜头光路系统像差难以修正！
浸没式水膜系统流速控制不稳定极易产生气泡造成曝光缺陷！工作台移动精度只能达到勉强满足180nm制程要求的水准！
一次次的优化调校失败！
一批批昂贵的“昆仑胎玉”硅片变成废料堆里的焦黑残骸！
（本章未完，请点击下一页继续阅读）